Bersaglio per sputtering in allumina Bersagli per sputtering in ceramica Al2O3

Il bersaglio di sputtering di allumina può raggiungere una purezza del 99,99%, ha elevata durezza, buona stabilità termica e isolamento, adatto per l'evaporazione con cannoni elettronici, formando una pellicola di allumina liscia e densa sulla superficie di altri componenti mediante processo di deposizione fisica in fase di vapore (PVD), per migliorare la prestazioni di isolamento elettrico, resistenza all’usura e alla corrosione. È ampiamente utilizzato nei settori dei semiconduttori, dei dispositivi ottici e della produzione meccanica.

Marca:
ATCERA
Articolo n.:
AT-AB-001

Materiali
Alumina Ceramic , ITO
Forme
Plate
Applicazioni
Semiconductor , Electronics and Electricity , Mechanical Parts , Petrochemical Industry

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Vantaggi del Target di sputtering di allumina

L'obiettivo di sputtering dell'allumina può raggiungere una purezza del 99,99%, ha un'elevata durezza, con una buona resistenza all'usura e alle alte temperature, ha anche una buona stabilità termica e isolamento.

application of alumina Al2O3 sputtering target

Applicazioni di Target per sputtering in ceramica di allumina

Il bersaglio di sputtering di allumina è adatto per l'evaporazione con cannoni elettronici, formando una pellicola di allumina liscia e densa sulla superficie di altri componenti mediante processo di deposizione fisica in fase di vapore (PVD), per migliorare le prestazioni di isolamento elettrico, resistenza all'usura e alla corrosione. È ampiamente utilizzato nei settori dei semiconduttori, dei dispositivi ottici e della produzione meccanica.

Parametri del prodotto
Parametri del materiale

Tabella delle dimensioni del Target di sputtering di allumina

Ci impegniamo a fornire un target ottimale per lo sputtering di allumina personalizzato in base alle vostre precise esigenze. Il nostro team dedicato garantisce un'attenta aderenza alle vostre istruzioni, con l'obiettivo di superare le aspettative dei clienti. Inoltre, forniamo la flessibilità di dimensioni personalizzate per soddisfare le vostre esigenze specifiche.

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Target di sputtering di allumina
Articolo n.	Diametro (mm)	Spessore (mm)	Purezza dell'allumina(%)
AT-AB-001	25,4	3.175	99,99
AT-AB-002	25,4	6.35	99,99
AT-AB-003	50,8	3.175	99,99
AT-AB-004	50,8	6.35	99,99
AT-AB-005	76,2	3.175	99,99
AT-AB-006	76,2	6.35	99,99
AT-AB-007	101.6	3.175	99,99
AT-AB-008	101,6	6.35	99,99

Dati tecnici

	Obiettivo di sputtering di ossido di indio-stagno	Bersaglio per sputtering di allumina
Purezza	99,99%	99,99%

Informazioni preziose

Target per sputtering in ceramica di allumina Imballaggio

I target di sputtering in ceramica di allumina sono accuratamente imballati in contenitori appropriati per evitare potenziali danni.

Vantaggi della personalizzazione

1. In base al tuo scenario applicativo, analizza le esigenze, scegli il materiale e il piano di lavorazione appropriati.

2. Un team di professionisti, risposta rapida, può fornire soluzioni e preventivi entro 24 ore dalla conferma della richiesta.

3. Meccanismo flessibile di cooperazione aziendale, supporta almeno un pezzo di personalizzazione della quantità.

4. Fornisci rapidamente campioni e rapporti di prova per confermare che il prodotto soddisfa le tue esigenze.

5. Fornire suggerimenti sull'uso e la manutenzione del prodotto per ridurre i costi di utilizzo.

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