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Silicon Nitride Substrate
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Substrato in nitruro di silicio Substrato Si3N4 Substrato ceramico

Il substrato ceramico al nitruro di silicio è una nuova generazione di materiali per substrati semiconduttori, realizzati in polvere di nitruro di silicio di elevata purezza, con eccellente conduttività termica e isolamento, elevata resistenza meccanica e durezza, piccolo coefficiente di dilatazione termica, buone prestazioni di resistenza allo shock termico, ampiamente utilizzato nei semiconduttori e circuiti integrati, inclusi componenti di potenza, inverter, moduli di potenza, circuiti integrati multi-dispositivo, ecc.

  • Marca:

    ATCERA

  • Articolo n.:

    AT-DHG-JB001

  • Materiali

    Si3N4

  • Forme

    Substrate

  • Applicazioni

    Semiconductor , Electronics and Electricity
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Si3N4 Substrate

Proprietà del Substrato di nitruro di silicio

1. Resistenza alle alte temperature, la temperatura massima di utilizzo può raggiungere 1300°C;

2. Grande conduttività termica, fino a 95 W/(₹*m), piccolo coefficiente di dilatazione termica, solo 3*10-6/₹, con buona resistenza allo shock termico;

3. Elevata resistenza meccanica, buona tenacità, forte resistenza agli urti meccanici;

4. Buon isolamento elettrico, alta tensione di rottura, grande capacità di trasporto di corrente;

5. Può resistere all'erosione di vari acidi, alcali e altre sostanze chimiche, la resistenza alla corrosione è molto buona.

Applications of Si3N4 Substrate

Applicazioni di Si3N4 Substrato

Il substrato ceramico al nitruro di silicio viene utilizzato principalmente nella produzione di semiconduttori, dispositivi elettronici e altri dispositivi microelettronici, come substrato di chip e componenti elettronici, inclusi circuiti integrati (IC), dispositivi a radiofrequenza (RF), componenti piezoelettrici, componenti fotoelettrici, sensori, MEMS e altri dispositivi microelettronici. Essendo un materiale ad alte prestazioni, il substrato ceramico in nitruro di silicio può fornire una piattaforma di supporto stabile per garantire il normale funzionamento e le prestazioni dei componenti.

1. Applicazioni dell'industria elettronica

Il substrato ceramico in nitruro di silicio ha elevate prestazioni di isolamento e un'eccellente resistenza alle alte temperature, può soddisfare i requisiti di elevata affidabilità e prestazioni elevate dei componenti elettronici, utilizzati principalmente nella produzione di componenti elettronici, come condensatori elettronici, resistori, componenti magnetici e così via SU. Inoltre, può essere utilizzato anche per produrre lo strato intermedio di apparecchiature di comunicazione ad alta velocità per garantire la trasmissione stabile di segnali ad alta frequenza.

2. Industria fotoelettrica

I substrati ceramici in nitruro di silicio possono fornire buone prestazioni termiche e resistenza meccanica e sono ampiamente utilizzati nell'industria fotoelettrica, in particolare nella produzione di LED ad alta potenza, garantendo la stabilità e la durata dei componenti LED. Inoltre, può essere utilizzato anche per produrre materiali di supporto per pannelli solari per migliorarne la resistenza meccanica e chimica.

3. Industria elettrica

Il substrato ceramico in nitruro di silicio ha eccellenti prestazioni di isolamento e una buona dissipazione del calore e può essere utilizzato per produrre vari componenti elettrici ad alta potenza, come moduli di potenza, moduli di riscaldamento, ecc., garantendo in modo efficace la durata e l'affidabilità delle apparecchiature elettriche .

Tabella delle dimensioni del substrato Si3N4

Ci impegniamo a fornire un substrato ceramico ottimale in nitruro di silicio su misura per le vostre precise specifiche. Il nostro team dedicato garantisce un rispetto meticoloso delle vostre istruzioni, sforzandosi di superare le aspettative dei clienti. Inoltre, offriamo la flessibilità di dimensioni personalizzate per soddisfare le vostre esigenze specifiche.

I requisiti di disegno e specifica devono essere forniti in caso di richiesta di progettazione personalizzata.

Tolleranza di lavorazione:
1. Diametro: ±0,003 mm
2. Profondità del foro: ±0,005 mm
3. Rugosità superficiale: Ra0,02
4. Cilindricità: ±0,002 mm
5. Concentricità: ±0,002 mm
6. Parallelismo: ±0,002 mm

Invia requisiti per il design personalizzato

Drawing of Si3N4 Substrate Square and Rectangular

Si3N4 Substrato Quadrato e Rettangolare
Articolo n. Lunghezza
(mm)		 Larghezza
(mm)		 Spessore
(mm)
AT-DHG-JB001 10 10 0,32
AT-DHG-JB002 20 20 0,32
AT-DHG-JB003 30 30 4.0
AT-DHG-JB004 40 40 0,5
AT-DHG-JB005 50 50 0,32
AT-DHG-JB006 50 50 0,635
AT-DHG-JB007 50 50 1.0
AT-DHG-JB008 50 50 2.0
AT-DHG-JB009 50 50 4.0
AT-DHG-JB010 50 50 9.0
AT-DHG-JB011 100 100 0,3
AT-DHG-JB012 100 100 0,5
AT-DHG-JB013 100 100 0,6
AT-DHG-JB014 100 100 1.0
AT-DHG-JB015 100 100 4.0
AT-DHG-JB016 100 100 9.0
AT-DHG-JB017 114 114 0,3
AT-DHG-JB018 114 114 0,5
AT-DHG-JB019 114 114 0,6
AT-DHG-JB020 114 114 1.0
AT-DHG-JB021 190 138 0,3
AT-DHG-JB022 190 138 0,5
AT-DHG-JB023 190 138 0,6
AT-DHG-JB024 190 138 1.0

Drawing of Si3N4 Substrate Round

Si3N4 Substrato rotondo
Articolo n. Diametro
(mm)		 Spessore
(mm)
AT-DHG-JB025 5 0,25
AT-DHG-JB026 5 0,32
AT-DHG-JB027 5 0,625
AT-DHG-JB028 5 1
AT-DHG-JB029 10 0,25
AT-DHG-JB030 10 0,32
AT-DHG-JB031 10 0,625
AT-DHG-JB032 10 1
AT-DHG-JB033 20 0,25
AT-DHG-JB034 20 0,32
AT-DHG-JB035 20 0,625
AT-DHG-JB036 20 1
AT-DHG-JB037 40 0,25
AT-DHG-JB038 40 0,32
AT-DHG-JB039 40 0,625
AT-DHG-JB040 40 1
AT-DHG-JB041 50 0,25
AT-DHG-JB042 50 0,32
AT-DHG-JB043 50 0,625
AT-DHG-JB044 50 1
AT-DHG-JB045 100 0,32
AT-DHG-JB046 100 1
AT-DHG-JB047 100 2
AT-DHG-JB048 150 0,32
AT-DHG-JB049 150 1
AT-DHG-JB050 150 2
AT-DHG-JB051 150 20

Dati tecnici di Materiali in nitruro di silicio

Tipo Si3N4 Sinterizzazione a pressione del gas Si3N4 Sinterizzazione a caldo Si3N4
Densità (g/cm3) 3.2 3.3
Resistenza alla flessione (MPa) 700 900
Modulo di Young (GPa) 300 300
Rapporto di Poisson 0,25 0,28
Resistenza alla compressione (MPa) 2500 3000
Durezza (GPa) 15 16
Resistenza alla frattura (MPa*m1/2) 5~7 6~8
Temperatura massima di esercizio (â) 1100 1300
Conducibilità termica (W/m*K) 20 25
Coefficiente di dilatazione termica (/â) 3*10-6 3,1*10-6
Resistenza allo shock termico (ΔT â) 550 800

*Questa tabella illustra le caratteristiche standard dei materiali in nitruro di silicio comunemente utilizzati nella produzione dei nostri prodotti e componenti Si3N4. Tieni presente che gli attributi dei prodotti e dei componenti personalizzati in nitruro di silicio possono variare a seconda dei processi specifici coinvolti. I parametri dettagliati vengono decisi in base al tipo e alla composizione dell'agente stabilizzante.

Istruzioni per l'uso

1. La collisione e l'impatto durante l'uso devono evitare danni;
2. La temperatura di esercizio del substrato ceramico di nitruro di silicio deve essere rigorosamente controllata, si deve evitare un funzionamento prolungato a temperatura elevata;
3. Il substrato ceramico in nitruro di silicio ha una buona resistenza alla corrosione da acidi, alcali, sale e altri prodotti chimici, ma deve essere evitato il contatto con l'acido fluoridrico;
4. La superficie del substrato ceramico in nitruro di silicio è facile da contaminare con polvere e sporco, che possono comprometterne le prestazioni e la durata, pertanto deve essere pulita regolarmente durante l'uso per mantenere la superficie pulita e lucida.

Informazioni preziose

Si3N4 Substrate Packing

Si3N4 Substrato Imballaggio

I substrati ceramici in nitruro di silicio sono accuratamente imballati in contenitori appropriati per evitare potenziali danni.

Vantaggi della personalizzazione
Vantaggi della personalizzazione

1. In base al tuo scenario applicativo, analizza le esigenze, scegli il materiale e il piano di lavorazione appropriati.

2. Un team di professionisti, risposta rapida, può fornire soluzioni e preventivi entro 24 ore dalla conferma della richiesta.

3. Meccanismo flessibile di cooperazione aziendale, supporta almeno un pezzo di personalizzazione della quantità.

4. Fornisci rapidamente campioni e rapporti di prova per confermare che il prodotto soddisfa le tue esigenze.

5. Fornire suggerimenti sull'uso e la manutenzione del prodotto per ridurre i costi di utilizzo.

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